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光刻
[guāng kè]
na.
【物】
photoetching
Web
Lithography
;
photolithography
;
photoengraving
Chinese-English
Web Definition
na.
1.
【物】
photoetching
1.
Lithography
Intel Core Solo T1300_百度百科 ... Embedded Options Available 嵌入式可用选项
Lithography
光刻
Max TDP 最大神灯 ...
baike.baidu.com
|
Based on 2236 pages
2.
photolithography
光刻
(英语:
photolithography
)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形 …
zh.wikipedia.org
|
Based on 181 pages
3.
photoetching
... photoelectronics 光电子学
photoetching
光刻
[蚀] photoexcitation 光[致]激发 ...
www.cps-net.org.cn
|
Based on 130 pages
4.
photoengraving
P ... photocell 光电管
photoengraving
光刻
,光蚀刻 photoetching 光蚀刻,光刻 ...
course.cug.edu.cn
|
Based on 24 pages
5.
photolithographic
在最终装配之前,利用
光刻
(
Photolithographic
)或丝网印刷(Screen-print)制程(类似印刷电路板的蚀刻方法),ITO层便会在塑胶薄 …
www.2cm.com.tw
|
Based on 13 pages
6.
EUVL
极紫外投影
光刻
(
EuvL
)两镜微缩投影物镜通常采用Schwarzschild结构和平场结构.本文分析了这两种结构在EUVL不同发展阶段 …
d.wanfangdata.com.cn
|
Based on 12 pages
7.
optical lithography
而真正
光刻
(
optical lithography
)的应用是在1852年,一个叫J. N. Niepce的人发现一些沥青对紫外辐射比较敏感,于是他利用 …
www.2ic.cn
|
Based on 11 pages
More Definitions
Collapse Definitions
Sample Sentence
Definition:
All
All
,
Lithography
Lithography
,
photolithography
photolithography
,
photoengraving
photoengraving
Category:
All
All
,
Oral
Oral
,
Written
Written
,
Title
Title
,
Technical
Technical
Source:
All
All
,
Dictionary
Dictionary
,
Web
Web
Difficulty:
All
All
,
Easy
Easy
,
Middle
Middle
,
Hard
Hard
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Hide sentence filters
1.
Where
the
UV
light
shines
through
,
it
chemically
weakens
the
photoresist
,
leaving
a
pattern
on
the
surface
of
the
silicon
.
在
紫外
光
照射
穿透
的
地方
,
光刻
胶
的
化学
特性
会
被
削弱
,
使
硅
晶片
表面
留下
图案
。
zài
zǐ wài
guāng
zhào shè
chuān tòu
de
dì fang
,
guāng kè jiāo
de
huà xué
tè xìng
huì
bèi
xuē ruò
,
shǐ
guī
jīng piàn
biǎo miàn
liú xià
tú àn
。
blog.ednchina.com
2.
A
strong
acid
,
it
is
toxic
and
can
cause
severe
Burns
.
It attacks
most
metals
and
is
used
for
etching
steel
and
photoengraving
.
硝酸
是
一种
强酸
,
有毒
,
并
能
造成
严重
烧伤
。
能
与
大多数
金属
起作用
,
用于
蚀刻
钢材
和
光刻
。
xiāo suān
shì
yī zhǒng
qiáng suān
,
yǒu dú
,
bìng
néng
zào chéng
yán zhòng
shāo shāng
。
néng
yǔ
dà duō shù
jīn shǔ
qǐ zuò yòng
,
yòng yú
shí kè
gāng cái
hé
guāng kè
。
www.bing.com
3.
The
material
of
oar
shape
chemistry
that
phosphor
turns
indium
chip to
call
photoetching
glue
through
a kind
on
product
line
has
package
.
磷
化
铟
晶片
在
出产
线
上
经过
一种
称为
光刻
胶
的
浆
状
化学
物质
进行
包裹
。
lín
huà
yīn
jīng piàn
zài
chū chǎn
xiàn
shàng
jīng guò
yī zhǒng
chēng wéi
guāng kè
jiāo
de
jiāng
zhuàng
huà xué
wù zhì
jìn xíng
bāo guǒ
。
www.eebug.cn
4.
A
small
undesired
hole
in an
oxide
,
opaque
region
of
a
mask
or
reticle
,
or
in a
photoresist
layer
.
氧化物
、
掩模
或
标线
的
不透明
区域
,
或
光刻
层
中
不
需要
的
小
孔
。
yǎng huà wù
、
yǎn mó
huò
biāo xiàn
de
bù tòu míng
qū yù
,
huò
guāng kè
céng
zhōng
bù
xū yào
de
xiǎo
kǒng
。
www.epcb.org
5.
Laser
lithography
is
one of the
main
methods
for
manufacturing
micro
-
optical
and
the
binary
optical
masks
.
激光
光刻
是
加工
微
光学
及
二元
光学
掩模
的
主要
手段
。
jī guāng
guāng kè
shì
jiā gōng
wēi
guāng xué
jí
èr yuán
guāng xué
yǎn mó
de
zhǔ yào
shǒu duàn
。
www.opticsjournal.net
6.
One embodiment of the present invention provides
techniques
and
systems
for
determining
modeling
parameters
for
a
photolithography
process
.
一种
用于为
光刻
工艺
确定
参数
的
方法
,
所
述
方法
包括
:
接收
布局
;
yī zhǒng
yòng yú wèi
guāng kè
gōng yì
què dìng
cān shù
de
fāng fǎ
,
suǒ
shù
fāng fǎ
bāo kuò
:
jiē shōu
bù jú
;
ip.com
7.
In
this
article
,
the
authors
explain
the
indications
and
limitations
of
the
Clear
Aligner
,
as
well
as
the
laboratory
and
clinical
protocol
.
在
这
篇
文章
中
,
作者
解释
的
适应证
和
局限性
的
明确
光刻
,
以及
实验室
和
临床
议定书
。
zài
zhè
piān
wén zhāng
zhōng
,
zuò zhě
jiě shì
de
shì yìng zhèng
hé
jú xiàn xìng
de
míng què
guāng kè
,
yǐ jí
shí yàn shì
hé
lín chuáng
yì dìng shū
。
www.syyxw.com
8.
As
the
density
of
VLSI
circuit
increases
,
the
proximity
effect
has
been
one
of the
critical
issues
in
optical
lithography
.
随着
超
大规模集成电路
(
VLSI
)
图形
密度
的
增大
,
临近
效应
已
成为
光学
光刻
的
关键
问题
之一
。
suí zhe
chāo
dà guī mó jí chéng diàn lù
(
VLSI
)
tú xíng
mì dù
de
zēng dà
,
lín jìn
xiào yìng
yǐ
chéng wéi
guāng xué
guāng kè
de
guān jiàn
wèn tí
zhī yī
。
d.wanfangdata.com.cn
9.
The
beam
division
method
in
maskless
laser
interference
photolithography
can
be
divided into
wave
-
front
division
and
amplitude
division
.
无
掩
模
激光
干涉
光刻
中
的
分
束
方法
一般
有
波
前
分割
和
振幅
分割
。
wú
yǎn
mó
jī guāng
gān shè
guāng kè
zhōng
de
fēn
shù
fāng fǎ
yì bān
yǒu
bō
qián
fēn gē
hé
zhèn fú
fēn gē
。
www.ceps.com.tw
10.
The
present
invention
discloses
an
optical
focus
sensor
, an
inspection
apparatus
and
a
lithographic
apparatus
.
本
发明
公开
了
一种
光学
聚焦
传感器
、
检查
设备
以及
光刻
设备
。
běn
fā míng
gōng kāi
le
yī zhǒng
guāng xué
jù jiāo
chuán gǎn qì
、
jiǎn chá
shè bèi
yǐ jí
guāng kè
shè bèi
。
www.bing.com
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