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CMP抛光液
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释义:
全部
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类别:
全部
全部
,
口语
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,
书面语
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,
标题
标题
,
技术
技术
来源:
全部
全部
,
字典
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,
网络
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难度:
全部
全部
,
简单
简单
,
中等
中等
,
难
难
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1.
It
delivers
slurry
to
the
wafer
workpiece
and
provides
part
of
the mechanical
action
in the CMP
process
.
它
具有
贮存
抛光
液
,
并
把
它
均匀
运送
到
工件
的
整个
加工
区域
等
作用
。
www.ceps.com.tw
2.
A
Study
of
CMP
Polishing
Technology
and
Polishing
Liquid
in
Preparation
of
Microelectronics
Devices
微电子
器件
制备
中
CMP
抛光
技术
与
抛光
液
的
研究
www.ilib.cn
3.
Study
and
Optimization
of
CMP
Slurry
Used to
Tantalum
Barrier
Layer
of
Copper
Interconnection in ULSI
ULSI
铜
多层
布线
中
钽
阻挡
层
CMP
抛光
液
的
研究
与
优化
www.ilib.cn
4.
Electrochemical
behavior
of
copper
in
weak
alkaline
slurry
during CMP
弱
碱性
抛光
液
中
铜
化学
机械
抛光
的
电化学
行为
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