PECVD

  • 网络等离子增强化学气相沉积(plasma enhanced chemical vapour deposition);等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition);化学气相沉积设备
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等离子增强化学气相沉积(plasma enhanced chemical vapour deposition)
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2.
等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中,利用逐层淀积非晶硅(a-Si)和等离子体氧化相结合的方法制备二氧化硅(SiO林若 …
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化学气相沉积设备
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4.
化学气相沈积
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等离子体化学气相沉积
等离子体化学气相沉积PECVD)法,通过改变[SiH4∶N2] [NH3] 的流量比沉积SiN 薄膜.用椭圆偏.. 全部>> wang5945 热 …
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化学气相沉积系统
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例句

释义:
类别:全部全部,口语口语,书面语书面语,标题标题,技术技术
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