溅射 - 维基百科，自由的百科全书
WEB溅射 （sputtering），也称 溅镀 （sputter deposition/coating），是一种 物理气相沉积 技术，指 固體 靶"target"（或源"source"）中的原子被高能量 離子 （通常來自 等離子體 ）撞擊而離開固體進入氣體的物理过程。. 溅射一般是在充有 惰性气体 的真空系统中，通过高压 ...
溅射（应用技术）_百度百科
WEB图1 PVD薄膜制备技术:溅射. 溅射（sputtering）是PVD薄膜制备技术的一种，主要分为四大类： 直流溅射 、交流溅射、 反应溅射 和 磁控溅射 。. 原理如图1：. 原理：用 带电粒子 轰击 靶材 ，加速的离子轰击固体表面时，发生表面 原子 碰撞并发生能量和 动量 的转移 ...
关于溅射 - 知乎
WEB一、 溅射的基本内容：. 1、定义：所谓溅射，就是这充满腔室的工艺气体在高电压的作用下，形成气体等离子体（辉光放电），其中的阳离子在电场力作用下高速向靶材冲击，阳离子和靶材进行能量交换，使靶材原子获得足够的能量从靶材表面逸出（其中逸出的 ...
溅射工艺_百度百科
WEB溅射工艺主要用于溅射刻蚀和薄膜淀积两个方面。溅射刻蚀时，被刻蚀的材料置于靶极位置，受氩离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。溅射刻蚀时，应尽可能从溅射室中除去溅出的靶极原子。
矢量科学丨详解磁控溅射技术 - 知乎 - 知乎专栏
WEBApr 2, 2024 · 磁控溅射是一种常用的物理气相沉积（PVD）的方法，具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好，成分接近靶材成分等众多优点。. 磁控溅射的工作原理是 ：在高真空的条件下充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁）之间 …
磁控溅射：精密薄膜制备的艺术与科学 - 港湾半导体
WEBApr 3, 2024 · 什么是磁控溅射？磁控溅射属于物理气相沉积法（pvd）是一种常用的薄膜制备技术，利用离子轰击和溅射原理，在真空环境中通过施加高频电场和静磁场来实现。磁控溅射在半导体制造、光学薄膜、显示器件、传感器和涂层等领域有着广泛的应用。
溅射沉积技术 - 知乎
WEB定义. 溅射镀膜是指在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通过粒子动量传递打出靶材中的原子及其它粒子，并使其沉淀在基体上形成薄膜的技术。. 溅射镀膜技术具有可实现大面积快速沉积，薄膜与基体结合力好，溅射密度高、针孔少，膜层可控性和重复性 ...
溅射 - Wikiwand
WEB溅射 （sputtering），也称 溅镀 （sputter deposition/coating），是一种 物理气相沉积 技术，指 固體 靶"target"（或源"source"）中的原子被高能量 離子 （通常來自 等離子體 ）撞擊而離開固體進入氣體的物理过程。. 溅射一般是在充有 惰性气体 的真空系统中，通过高压 ...
溅射 - Wikiwand
WEB（sputtering），也称溅镀，是一种物理气相沉积技术，指固体靶"target"（或源"source"）中的原子被高能量离子（通常来自等离子体）撞击而离开固体进入气体的物理过程。
薄膜沉积丨磁控溅射技术原理及应用 介绍 - AccSci英生科技
WEB磁控溅射是一种物理气相沉积（pvd）工艺，属于真空沉积工艺的一种。因其沉积温度低、薄膜质量好、均匀性好、沉积速度快、可制备大面积均匀、致密的硬质薄膜等诸多优点被广泛应用于工业镀膜中。本文从工作原理、种类、应用做一简介。
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