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  1. 百度百科
    https://baike.baidu.com/item/蚀刻

    蚀刻_百度百科

  2. 知乎专栏
    https://zhuanlan.zhihu.com/p/448794935

    什么是金属蚀刻和蚀刻工艺？ - 知乎 - 知乎专栏

  4. 维基百科
    https://zh.wikipedia.org/wiki/刻蚀

    刻蚀 - 维基百科，自由的百科全书

  5. SK hynix Newsroom
    https://news.skhynix.com.cn/details-defined-a-look-at-etch-technology

    详情及定义：蚀刻技术（Etch Technology）概览 | SK hynix …

  6. People also ask
    什么是刻蚀?
    刻蚀，是指用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。 刻蚀的基本目的，是在涂胶 (或有掩膜)的硅片上正确的复制出掩膜图形。 刻蚀，通常是在光刻工艺之后进行。 我们通常通过刻蚀，在光刻工艺之后，将想要的图形留在硅片上。 从这一角度而言，刻蚀可以被称之为最终的和最主要的图形转移工艺步骤。 在通常的刻蚀过程中，有图形的光刻胶层〔或掩膜层)将不受到腐蚀源显著的侵蚀或刻蚀，可作为掩蔽膜，保护硅片上的部分特殊区域，而未被光刻胶保护的区域，则被选择性的刻蚀掉。 1.2干法刻蚀与湿法刻蚀 在半导体制造中有两种基本的刻蚀工艺：干法刻蚀和湿法腐蚀。

    【原创】干法刻蚀基础知识及应用 - 电子工程专辑 EE Times

    eet-china.com
    刻蚀工艺有哪些步骤?
    刻蚀工艺包括八个步骤：ISO、BG、BLC、GBL、SNC、M0、SN和MLM。 首先，ISO（Isolation）阶段进行晶圆上的硅（Si）蚀刻（Etch），创建有源单元区。 BG（Buried Gate）阶段形成行地址线路（Word Line） 1 和栅极，打造电子通道。

    详情及定义：蚀刻技术（Etch Technology）概览 | SK hynix

    news.skhynix.com.cn
    干蚀刻的优点是什么?
    干蚀刻是一种各向异性蚀刻，具有良好的方向性，但选择性比湿蚀刻差。 在等离子体蚀刻中，等离子体是一种部分离解的气体，气体分子被离解成电子、离子和其他具有高化学活性的物质。 干蚀刻最大的优点是“ 各向异性蚀刻 ”。 然而，（自由基）干蚀刻的选择性低于湿蚀刻。 这是因为干蚀刻的蚀刻机理是物理相互作用；因此，离子的冲击不仅可以去除蚀刻膜，还可以去除光刻胶掩模。

    什么是金属蚀刻和蚀刻工艺？ - 知乎

    zhuanlan.zhihu.com
    刻蚀的效果和湿法刻蚀有何不同?
    由于刻蚀的核心还是化学反应，因此刻蚀的效果和湿法刻蚀有些相近，具有较好的选择性，但各向异性较差。 根据等离子体产生方式分为ICP感应耦合等离子体（inductively coupled plasma），CCP容性耦合等离子体（capacitively coupled plasma），ECR微波电子回旋共振等离子体（microwave electron cyclotron resonance）.

    干法刻蚀 - 先进电子材料与器件校级平台

    aemd.sjtu.edu.cn
    Feedback
  7. Lam Research
    https://www.lamresearch.com/products/our-processes/etch

    Etch - Lam Research

  8. 维基百科
    https://zh.wikipedia.org/zh-hans/蝕刻

    蚀刻 - 维基百科，自由的百科全书

  10. Coherent
    https://www.coherent.com/zh/news/glossary/laser-etching

    什么是激光蚀刻？它的用途是什么？ | Coherent 高意

  11. Struers.com
    https://www.struers.com/zh-CN/Knowledge/Etching

    金相蚀刻见解 | Struers.com

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