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光刻
[guāng kè]
na.
【物】
photoetching
Web
Lithography
;
photolithography
;
photoengraving
Chinese-English
Web Definition
na.
1.
【物】
photoetching
1.
Lithography
Intel Core Solo T1300_百度百科 ... Embedded Options Available 嵌入式可用选项
Lithography
光刻
Max TDP 最大神灯 ...
baike.baidu.com
|
Based on 2236 pages
2.
photolithography
光刻
(英语:
photolithography
)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然 …
zh.wikipedia.org
|
Based on 181 pages
3.
photoetching
... photoelectronics 光电子学
photoetching
光刻
[蚀] photoexcitation 光[致]激发 ...
www.cps-net.org.cn
|
Based on 130 pages
4.
photoengraving
P ... photocell 光电管
photoengraving
光刻
,光蚀刻 photoetching 光蚀刻,光刻 ...
course.cug.edu.cn
|
Based on 24 pages
5.
photolithographic
在最终装配之前,利用
光刻
(
Photolithographic
)或丝网印刷(Screen-print)制程(类似印刷电路板的蚀刻方法),ITO层便会在塑胶薄膜,通常 …
www.2cm.com.tw
|
Based on 13 pages
6.
EUVL
极紫外投影
光刻
(
EuvL
)两镜微缩投影物镜通常采用Schwarzschild结构和平场结构.本文分析了这两种结构在EUVL不同发展阶段的设计特点…
d.wanfangdata.com.cn
|
Based on 12 pages
7.
optical lithography
而真正
光刻
(
optical lithography
)的应用是在1852年,一个叫J. N. Niepce的人发现一些沥青对紫外辐射比较敏感,于是他利用这些材料 …
www.2ic.cn
|
Based on 11 pages
More Definitions
Collapse Definitions
Sample Sentence
Definition:
All
All
,
Lithography
Lithography
,
photolithography
photolithography
,
photoengraving
photoengraving
Category:
All
All
,
Oral
Oral
,
Written
Written
,
Title
Title
,
Technical
Technical
Source:
All
All
,
Dictionary
Dictionary
,
Web
Web
Difficulty:
All
All
,
Easy
Easy
,
Middle
Middle
,
Hard
Hard
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1.
Where
the
UV
light
shines
through
,
it
chemically
weakens
the
photoresist
,
leaving
a
pattern
on
the
surface
of
the
silicon
.
在
紫外
光
照射
穿透
的
地方
,
光刻
胶
的
化学
特性
会
被
削弱
,
使
硅
晶片
表面
留下
图案
。
zài
zǐ wài
guāng
zhào shè
chuān tòu
de
dì fang
,
guāng kè jiāo
de
huà xué
tè xìng
huì
bèi
xuē ruò
,
shǐ
guī
jīng piàn
biǎo miàn
liú xià
tú àn
。
blog.ednchina.com
2.
A
strong
acid
,
it
is
toxic
and
can
cause
severe
Burns
.
It attacks
most
metals
and
is
used
for
etching
steel
and
photoengraving
.
硝酸
是
一种
强酸
,
有毒
,
并
能
造成
严重
烧伤
。
能
与
大多数
金属
起作用
,
用于
蚀刻
钢材
和
光刻
。
xiāo suān
shì
yī zhǒng
qiáng suān
,
yǒu dú
,
bìng
néng
zào chéng
yán zhòng
shāo shāng
。
néng
yǔ
dà duō shù
jīn shǔ
qǐ zuò yòng
,
yòng yú
shí kè
gāng cái
hé
guāng kè
。
www.cfeie.com
3.
The
material
of
oar
shape
chemistry
that
phosphor
turns
indium
chip to
call
photoetching
glue
through
a kind
on
product
line
has
package
.
磷
化
铟
晶片
在
出产
线
上
经过
一种
称为
光刻
胶
的
浆
状
化学
物质
进行
包裹
。
lín
huà
yīn
jīng piàn
zài
chū chǎn
xiàn
shàng
jīng guò
yī zhǒng
chēng wéi
guāng kè
jiāo
de
jiāng
zhuàng
huà xué
wù zhì
jìn xíng
bāo guǒ
。
www.eebug.cn
4.
A
small
undesired
hole
in an
oxide
,
opaque
region
of
a
mask
or
reticle
,
or
in a
photoresist
layer
.
氧化物
、
掩模
或
标线
的
不透明
区域
,
或
光刻
层
中
不
需要
的
小
孔
。
yǎng huà wù
、
yǎn mó
huò
biāo xiàn
de
bù tòu míng
qū yù
,
huò
guāng kè
céng
zhōng
bù
xū yào
de
xiǎo
kǒng
。
www.epcb.org
5.
Laser
lithography
is
one of the
main
methods
for
manufacturing
micro
-
optical
and
the
binary
optical
masks
.
激光
光刻
是
加工
微
光学
及
二元
光学
掩模
的
主要
手段
。
jī guāng
guāng kè
shì
jiā gōng
wēi
guāng xué
jí
èr yuán
guāng xué
yǎn mó
de
zhǔ yào
shǒu duàn
。
www.opticsjournal.net
6.
One embodiment of the present invention provides
techniques
and
systems
for
determining
modeling
parameters
for
a
photolithography
process
.
一种
用于为
光刻
工艺
确定
参数
的
方法
,
所
述
方法
包括
:
接收
布局
;
yī zhǒng
yòng yú wèi
guāng kè
gōng yì
què dìng
cān shù
de
fāng fǎ
,
suǒ
shù
fāng fǎ
bāo kuò
:
jiē shōu
bù jú
;
ip.com
7.
In
this
article
,
the
authors
explain
the
indications
and
limitations
of
the
Clear
Aligner
,
as
well
as
the
laboratory
and
clinical
protocol
.
在
这
篇
文章
中
,
作者
解释
的
适应证
和
局限性
的
明确
光刻
,
以及
实验室
和
临床
议定书
。
zài
zhè
piān
wén zhāng
zhōng
,
zuò zhě
jiě shì
de
shì yìng zhèng
hé
jú xiàn xìng
de
míng què
guāng kè
,
yǐ jí
shí yàn shì
hé
lín chuáng
yì dìng shū
。
www.syyxw.com
8.
As
the
density
of
VLSI
circuit
increases
,
the
proximity
effect
has
been
one
of the
critical
issues
in
optical
lithography
.
随着
超
大规模集成电路
(
VLSI
)
图形
密度
的
增大
,
临近
效应
已
成为
光学
光刻
的
关键
问题
之一
。
suí zhe
chāo
dà guī mó jí chéng diàn lù
(
VLSI
)
tú xíng
mì dù
de
zēng dà
,
lín jìn
xiào yìng
yǐ
chéng wéi
guāng xué
guāng kè
de
guān jiàn
wèn tí
zhī yī
。
d.wanfangdata.com.cn
9.
A
substrate
handler
for
moving
a
substrate
relative
to
a
substrate
table
of
a
lithographic
apparatus
.
为
移动
一个
基
板
相
对于
一个
光刻
设备
基
板
表
基
板
处理
程序
。
wèi
yí dòng
yī gè
jī
bǎn
xiāng
duì yú
yī gè
guāng kè
shè bèi
jī
bǎn
biǎo
jī
bǎn
chǔ lǐ
chéng xù
。
www.1168818.cn
10.
Transmission
phase
gratings
with
continuous
relief
structures
are
fabricated
with
one
step
direct
laser
writing
grayscale
photolithography
.
利用
一
步
激光
直
写
灰
阶
光刻
方法
制作
了
具有
连续
浮雕
结构
的
透射
式
相位
光栅
。
lì yòng
yī
bù
jī guāng
zhí
xiě
huī
jiē
guāng kè
fāng fǎ
zhì zuò
le
jù yǒu
lián xù
fú diāo
jié gòu
de
tòu shè
shì
xiàng wèi
guāng shān
。
www.ceps.com.tw
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