相沉积

1.
CVD
...精馏提纯,提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行化学气 相沉积CVD)反应生产高纯多晶硅。
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2.
MOCVD
[摘要] 本发明公开了一种双波长单芯片发光二极管,属于半导体照明领域和金属有机化学气 相沉积(MOCVD)技术领域。该器件包括若干 …
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3.
PECVD
...限于氮化物或氧化物村里, 也可使用其它的应 力衬里材料。 形成应力衬里的方法包括但不限于等离子体增 强化学气 相沉积 (PECVD) …
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4.
PCVD
并可与多弧离子镀膜设备、磁控溅射设备及等离子体增强化学气 相沉积PCVD)等设备配套使用。其成果获“武汉市科技进步二等奖”。
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5.
HWCVD
1.2 研究内容与方法 1.2.1 硅锗薄膜制备方法 制备非晶硅锗薄膜的方法有多种,目前常用的是 PECVD 和热丝化学气 相沉积HWCVD)。
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6.
HFCVD
...超声波 浴粉, 并积极偏见在钻石生长在热丝化学气 相沉积HFCVD)系统,以提高成核 TION 密度和电子轰击钻石品质 MENT。
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7.
Chemical Vapor Deposition-CVD
...l Evaporation)等;化学方法有化学气 相沉积(Chemical Vapor Deposition-CVD)、金属有机化合物气 相外延法(Metal Organic Vapor Ph...
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