· 碳 (C)：0.10～0.22% · 硅 (Si)：0.17～0.37% · 锰 (Mn)：1.10～1.70% · 硫 (S)：允许残余含量≤0.35% · 磷 (P)：允许残余含量≤0.35% · 铬 (Cr)：允许残余含量≤0.30% · ...

由于水气仍多，明（7）日东半部地区有局部短暂阵雨，可能有较大雨势，西半部地区多云到晴，午后山区有局部短暂雷阵雨。气象署表示，周三、周四（8日、9日）东北季风稍增强，北台湾低温约20度，局部可能降至18、19度，周三全台都有降雨机率，周四天气转乾，东部 ...

低温热解炉的焚烧原理首要是经过流态化技能对垃圾进行焚烧，并利用砂进行安全处理，在垃圾焚烧过程中，必须将垃圾处理在液床中，使垃圾达到一定的颗粒状态，并经过短时间的流态化焚烧，能够在短时间内利用风进行处理，将空气从液床底部喷出，砂介质的合理会使垃圾构成流 ...

值得一提的是，东京电子的这款低温蚀刻设备在环保方面也表现出色。 它采用氟化氢（HF）气体作为蚀刻介质，相较于传统系统使用的氟碳化物气体，具有更低的温室效应，为半导体行业的绿色发展提供了有力支持。

随着3D NAND的堆叠层数越来越多，厂家门也在着手研究新的生产技术以改进效率，SK海力士就在评估东京电子最新的低温蚀刻设备，该设备可以在-70℃的低温下运行，用来生成400层以上堆叠的新型 ...

为庆祝中法建交60周年，5月6日，由中国科技部与法国高等教育与研究部共同主办的中法科技合作成果展在法国巴黎开幕。 此次成果展系统回顾了中法建交以来尤其是1978年中法政府间科技合作协定签署后的合作历程，着重展示了双方人员交流、平台建设等重点合作机制的发展成效以及在航空航天、基础研究、农业食品、能源环境、生物医药等重点领域的合作成果。 中国科学院理化技术研究所与法国国家计量院在低温计量领域开展了深入 ...

最近几年，消费级市场出现了许多颇具实力的存储品牌，佰维(Biwin)就是其中之一。 近日，我们快科技收到了佰维 NV7200 2TB SSD ...

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据了解，SK海力士此次并未直接引进设备，而是选择将测试晶圆发送到东京电子的实验室进行评估，以验证新设备在生产中的实际表现。这一举措显示了SK海力士在新技术引入上的谨慎态度和对质量的严格把控。

SK 海力士官宣的最新一代 321 层 NAND 闪存采用了三堆栈结构。业内人士预计，如果东京电子的低温蚀刻设备效果良好，未来 400 + 层闪存产品有望将堆栈数量降低到 2 乃至 1。

伴随着3D NAND的堆叠层数越来越多，设备厂商以及存储厂商正在想方设法的研究新的生产技术从而改进生产效率。根据最新的消息表明SK海力士和三星目前都正在对东京电子最新的低温蚀刻设备进行测试，这一设备对于提升3D NAND的堆叠层数有着更加重大的意义。

步入式高低温湿热试验箱是科研、生产等领域中常用的设备，用于模拟各种环境下的产品性能测试。然而，当这种设备出现生锈问题时，不仅会影响其使用效果，还可能对测试结果产生负面影响。那么，如何处理步入式高低温湿热试验箱生锈的问题呢？